کسی بھی مواد میں اس کے فوائد اور نقصانات ہیں. سنکنرن مزاحمت کو مزید بہتر بنانے کے لئے, مزاحمت پہننے, شاخوں مزاحمت, اعلی درجہ حرارت آکسائڈریشن مزاحمت اور ٹائٹینیم اللویس کے دیگر مقاصد, ٹائٹینیم اللویس کی سطح کے علاج کو مزید ٹائٹینیم اللویس کے استعمال کی گنجائش کو بڑھانے کے لئے ہے. مؤثر طریقے سے ، یہ کہا جا سکتا ہے کہ دھاتوں کے لئے موجودہ سطح کے علاج کے طریقوں ٹائٹینیم اللویس کی سطح کے علاج کے لئے تقریبا تمام لاگو ہیں, دھاتی چڑھانا سمیت, الیکٹرو کم چڑھانا, تھرمل پھیلاؤ, anodizing, تھرمل چھڑکاو, کم دباؤ آئن ٹیکنالوجی, الیکٹرانک اور لیزر سطح اللویس کیمیائی, غیرمتوازن ماگنیٹراون سپوٹرانگ کوٹنگ, آئن ناٹرادانگ, فلم پروڈکشن کے لئے PVD طریقہ, آئن چڑھانا, قزمہ طرزیات عام طور پر, TiO کی تشکیل, ٹن, میمجموعوں تہوں اور TiAlN کثیر پرت نینو-کے طور پر ٹائٹینیم اللویس کی سطح پر فلموں اب بھی توجہ مرکوز ہے.
چڑھانا: نکل چڑھانا ، ہارڈ کرومیم چڑھانا ، سلور چڑھانا وغیرہ ٹائٹینیم ملاوٹ کی سطح پر. سلور چڑھانا کا مقصد ٹائٹینیم ملاوٹ کے چالکتا اور بریزنگ خصوصیات کو بہتر بنانا ہے. ٹائٹینیم ملاوٹ substrate پر ایک گھنے آکسائڈ فلم ہے ، اور چڑھانا مشکل ہے ، لہذا ٹائٹینیم ملاوٹ کی سطح کو چڑھانا سے پہلے لازمی طور پر علاج کیا جانا چاہئے.
AC مائکرو آرک آکسائڈریشن: مائکرو آرک آکسائڈریشن (ماؤ) دھات کی سطحوں پر بڑھتی ہوئی آکسائڈ سیرامک فلموں کے لئے ایک نئی ٹیکنالوجی ہے. یہ anodizing سے تیار, لیکن اس نے کئی سو وولٹ کی ایک اعلی وولٹیج کا اطلاق کیا, anodizing کے وولٹیج کی حد کے ذریعے توڑ دیا جس. یہ ٹیکنالوجی براہ راست مائیکرو آرک پانى زون میں فوری طور پر اعلی درجہ حرارت اور ہائی دباؤ sintering کے ذریعے آکسائڈ سیرامکس میں بیس دھاتی کی تبدیل کرتا ہے ، اور ایک thicker آکسائڈ فلم حاصل. ٹائٹینیم ملاوٹ کی سطح پر مائکرو آرک آکسائڈریشن فلم کے لئے ، حاصل شدہ فلم دھاتی میٹرکس کے ساتھ اعلی سختی اور اچھا مجموعہ ہے. لباس مزاحمت ، سنکنرن مزاحمت ، تھرمل جھٹکا مزاحمت اور ٹائٹینیم ملاوٹ کی سطح کے موصلیت کی خصوصیات کو بہتر بنانے کے ، اور یہ بہت سے شعبوں میں ایپلی کیشن کے امکانات ہیں سطح آکسائڈریشن علاج: عام طور پر, ٹائٹینیم اور ٹائٹینیم اللویس عام طور پر استعمال حیاتیاتی اللویس کاوکر ملاوٹ اور 316L سٹینلیس سٹیل کے مقابلے میں غریب لباس مزاحمت ہے, اور پیدا لباس پاؤڈر حیاتیات میں منفی اثرات ہو سکتا ہے. لہذا ، زندہ حیاتیات کے لئے کچھ نو ترقی یافتہ ٹائٹینیم اللویس اکثر حیاتیات میں استعمال ہونے سے پہلے ان کے پہننے کی مزاحمت کو بہتر بنانے کے لئے مناسب سطح کے علاج کی ضرورت ہوتی ہے. اس کے آخر میں ، جاپان کے ٹویوہاشا یونیورسٹی آف ٹیکنالوجی اور سیونگ خصوصی سٹیل کمپنی ، لمیٹڈ کی تحقیق ایک نئے ترقی یافتہ β قسم ٹائٹینیم ملاوٹ Ti29Nb13Ta46Zr (مختصر کے لئے ٹنٹز ملاوٹ) حیاتیاتی استعمال کے لئے ، اور اس کی سطح کے لباس مزاحمت کو بہتر بنانے کے لئے سطح آکسائڈریشن علاج اپنایا. آئن لگاوٹ: آئن لگاوٹ اور دیگر سطح کے علاج کی ٹیکنالوجیز
بہت سے فوائد دکھانے کے مقابلے میں, جسمانی یا کیمیائی بخاری جمع کے ساتھ مقابلے میں, اہم فوائد ہیں:
(1) فلم اچھی طرح سے substrate کے ساتھ مل کر کیا جاتا ہے ، اور بند کرنے کے بغیر میکانی اور کیمیائی اثرات کے لئے مضبوط مزاحمت ہے;
(2) انجکشن کے عمل کو substrate درجہ حرارت میں اضافہ کی ضرورت نہیں ہے ، تاکہ کام کے ٹکڑے کی ہندسی درستگی کو برقرار رکھا جا سکے ؛
(3) اچھا عمل repeatability ، وغیرہ بہت سے محققین نے رپورٹ کیا ہے کہ نائٹروجن آئن لگاوٹ سطح کی ساخت کو بہتر بنا سکتے ہیں, مائکروسٹریٹر, سختی اور Ti6Al4V ملاوٹ کے ٹرابولوگاکال خصوصیات. ایک سپر مشکل مرحلے بھی ہے ، لہذا ٹائٹینیم کھوٹ بھی کاربن کی طرف سے لگاوٹ سے ٹائٹینیم ملاوٹ کی سطح کو مضبوط بنا سکتے ہیں. تاہم ، چونکہ پلازما کی بنیاد پر آئن لگاوٹ ایک مسلسل عمل نہیں ہے ، جب ہر منفی پلس ممکنہ طور پر لاگو ہوتا ہے ، کیونکہ اس کے علاوہ صفر سے ایک وادی سے زیادہ ممکنہ قطرے ، اور پھر صفر ، دو عمل ، سپوٹرانگ اور لگاوٹ سے ، واقع ہوتا ہے. اگر پلازما دھات یا کاربن آئنوں پر مشتمل ہے ، تو پلس ممکنہ صفر ہے ، ایک کاربن جمع کرنے والی پرت بعض حالات کے تحت سطح پر قائم کی جائے گی. ایک مخصوص پلس وولٹیج (10 ~ 30kV) کی کارروائی کے تحت ، ایک کاربن پرت کی ساخت ہیرے کی طرح کاربن (ڈی ایس ایس) ہے. اس طرح ، ایک سطح میں نظر ثانی شدہ پرت کم رگڑ عددی اور بہتر لباس مزاحمت نائٹروجن انجکشن پرت کے مقابلے میں حاصل کی جا سکتی ہے. سطح پر ایک کاربن پرت پرامانٹالل ایک DLC فلم بننے کے لئے مقرر کیا جاتا ہے. اس طرح میں کا علاج ٹائٹینیم ملاوٹ کی سطح 4 اوقات میں اضافہ ہوا ہے. جب رگڑ جوڑی اسی مواد کی طرف سے قائم کی جاتی ہے تو ، رگڑ کی گنجائش 0.4 سے 0.1 سے کم ہے خشک رگڑ حالات ، اور لباس مزاحمت غیر آئن لگاوٹ کے ساتھ مقابلے میں 30 بار سے زیادہ اضافہ ہوا ہے. . آئن بیم میں اضافہ ہوا (ڈی ای سی): Crc کالعدم مشکل فلم آئن بیم میں بہتر جمع (بی ای سی) کے طریقہ کار کی طرف سے تیار کیا جاتا ہے ، جس میں ٹائٹینیم ملاوٹ کے شاخوں پہننے کے لئے استعمال کیا جا سکتا ہے. مطالعہ سے پتہ چلتا ہے کہ Crc کالعدم بہترین شاخوں تھکاوٹ خصوصیات کو ظاہر کرتا ہے ؛ اور شاٹ پینانگ کے بعد لیپت Crc کالعدم فلم سب سے زیادہ شاخوں مزاحمت ظاہر کرتا ہے. کوٹنگ ٹیکنالوجی: کوٹنگ ٹیکنالوجی ٹائٹینیم اللویس کی آکسائڈریشن مزاحمت کو بہتر بنانے کے لئے ایک مؤثر طریقہ ہے. ایک امریکی کمپنی ٹائٹینیم مرکب substrate پر ایک یونیفارم تانبے ملاوٹ کی کوٹنگ کو شامل کرکے ٹائٹینیم اللویس کی آکسائڈریشن مزاحمت کو بہتر بنانے کے لئے ایک نیا طریقہ تیار کیا ہے. کوٹنگ میں استعمال کیا جاتا ہے کہ مندرجہ ذیل تین عبارات سے منتخب کیا جا سکتا ہے: 1. کاپر + 7% ایلومینیم; 2. کاپر + 4.5% ایلومینیم; 3. کاپر + 5.5% ایلومینیم + 3% سلکان. Substrate درجہ حرارت 619 ° c سے کم ہے جب کوٹنگ لاگو کیا جاتا ہے. لیزر آستین: یہ رپورٹ کیا جاتا ہے ٹائٹینیم ملاوٹ TC11 کے شاخوں لباس عام بوجھ اور شاخوں حیطہ (طبیعیات) میں اضافہ کے ساتھ بڑھاتا ہے. لیزر آستین کے بعد ، ٹائٹینیم ملاوٹ TC11's مخالف شاخوں کی صلاحیت کو بہتر بنایا گیا ہے ، اور اضافہ اور شاخوں رینج کا سائز. اینٹی شاخوں کی صلاحیت کی بہتری ساخت کی ادائیگی اور لیزر آستین کی طرف سے سختی میں اضافہ کا نتیجہ ہے. لیزر cladding: ایرو انجن ٹائٹینیم کھوٹ نکل کی بنیاد پر کھوٹ رگڑ جوڑی کے رابطے پہن ایروانگاناس کے استعمال میں ایک بڑا مسئلہ ہے. لیزر کلدانگ کو شامل کرنے کے لئے استعمال کیا جا سکتا ہے بہترین ملعمع کاری حاصل کرنے کے لئے ، جو گیس ٹربائن انجن کے حصوں کی مرمت کے لئے ایک نیا راستہ بناتا ہے. , کلدانگ اور ورلڈ کپ کا ایک میکانی مرکب ہے, جو اعلی درجہ حرارت پہن مزاحمت اور سنکنرن مزاحمت کو بہتر بناتا ہے. تکنیکی خصوصیات مختصر تیاری کے وقت ، مستحکم معیار ہیں ، اور تھرمل اثرات کی وجہ سے ہو سکتا ہے کہ درار کے مسئلے کو ختم. آئن بمباری: نائٹروجن آئن بمباری کی طرف سے TC11 ٹائٹینیم ملاوٹ کے سطح کے علاج کے بعد ، سطح 600 ~ 800HV کی سختی کے ساتھ ، ٹن اور Ti2N کی مشتمل ایک نظر ثانی شدہ پرت حاصل کر سکتے ہیں ؛ سطح سختی کی بڑھتی ہوئی TC11 ٹائٹینیم ملاوٹ کے پہننے کی مزاحمت کو بہتر بنانے کے لئے فائدہ مند ہے. پلازما ناٹرادانگ اور شاٹ پینانگ: Ti6Al4V ٹائٹینیم ملاوٹ کی سطح ایک ڈی سی پلس پلازما پاور ڈیوائس کا استعمال کرتے ہوئے ناٹراڈید ہے ، اور ناٹرادانگ پرت شاٹ پینانگ (ایس پی) کی طرف سے پوسٹ کیا گیا ہے گولی مار اسوپہاسی کی ساخت کی ناٹرادانگ پرت ، نظر ثانی شدہ پرت نمایاں طور پر عام لباس اور شاخوں پہننے (ایف ڈبلیو اے) ٹائٹینیم ملاوٹ کی مزاحمت کو بہتر بنا سکتی ہے ، لیکن substrate کی FF مزاحمت کو کم کر سکتا ہے. ناٹرادانگ پرت کے اینٹی رگڑ اور مخالف لباس کی خصوصیات SP کی طرف سے متعارف کرایا سطح بقایا compressive کشیدگی کے ساتھ synergistic ہیں ، تاکہ ٹائٹینیم کھوٹ FF کی مزاحمت صرف ایس پی کے اس سے کہیں زیادہ ہے. ناٹرادانگ پرت کی جفاکشی کو بہتر بنانے کو بہتر بنانے کے لئے اور ایک ٹائٹینیم ملاوٹ کے ایف ڈبلیو کی خصوصیات کے لئے بہت اہم ہے. DLC فلم: جامع کاربن فلم میں منفرد جسمانی ، میکانی اور کیمیائی خصوصیات ہیں ، اور یہ تحقیق اشیاء کی ایک بڑی تعداد کے طور پر استعمال کیا گیا ہے. ریڈیو فریکوئنسی پلازما بہتر کیمیائی بخاری جمع کی طرف سے ہیرے کی طرح کاربن فلموں کی تیاری کا بنیادی مقصد سطح سختی اور ٹائٹینیم اللویس کی رگڑ مزاحمت کو بہتر بنانے کے لئے ہے. ٹیسٹ کے نتائج ظاہر کرتے ہیں کہ اگر فلم میں ٹائٹینیم مواد 9 فیصد سے زیادہ ہے تو ، فلم کی سختی کو کم کرے گا ، اور فلم بیس کے تعلقات کی طاقت بھی محدود ہے. مائع جمع: TC4 کی سطح پر باوسراماک کوٹنگز کے مائع مرحلے جمع. حالیہ برسوں میں ، کیمیائی علاج کے ذریعے ٹائٹینیم کھوٹ میٹرکس امپلنٹس کی سطح پر باوسراماک کوٹنگز کی تیاری پر محرک تحقیق شائع کی گئی ہے. مثال کے طور پر ، اعلی حراستی نونارے یا ایچ2اے2 علاج کے عمل ، تجویز کردہ دو مرحلے الکالی علاج کے عمل ، اور modifiers کا تعارف پولیاکریلاٹی ملعمع کاری حاصل کرنے کے لئے جیسے vinyl ٹریتوایسالانی اور سوڈیم باوسراماک. TC4 ملاوٹ کے ایک سادہ ایسڈ کی بنیاد پریشر کے بعد ، یہ ایک جسم کے سیال کی ایک تیز رفتار کالکافاکاشن حل (FCS) میں ڈوب جاتا اور جمع کیا جاتا ہے ، اچھی حیاتیاتی سرگرمی کے ساتھ ایک تدریجی بندوا ٹائٹینیم کی بنیاد پر HA باوسراماک کوٹنگ جامع حاصل کرنے کے لئے. اس طریقہ کار کی تحقیق کو براہ راست مشکل ٹشو پرتیارپن مواد کے طور پر ٹائٹینیم ملاوٹ کی درخواست کے لئے بہت اہم نظریاتی اہمیت اور ممکنہ اقتصادی قدر ہے.
